投入研發短期內難以出成果

韓媒3日報道，韓國政府就日本限制對韓出口的應對方案作出回應，將計劃每年投入1萬億韓元(約合人民幣58.8億元)，推進對半導體材料、零部件和設備的研發，正在對此進行可行性調查。

不過，光刻膠是國際上技術門檻最高的微電子化學品之一。其行業集中度高，龍頭企業市場份額高，行業利潤水平高，且暫無潛在替代產品。又因為，作為半導體芯片產業的上游產品部分，光刻膠產品的質量直接影響下游芯片產品的質量，因此下游行業企業對光刻膠產品的質量和供貨能力十分重視，上下游的合作模式比較穩固，新的供應商較難加入供應鏈。

另外，隨著半導體IC的集成度日漸提升，對光刻技術的精密性要求也不斷嚴格，半導體光刻膠也通過不斷縮短曝光波長的方式來提高極限分辨率。據了解，光刻膠的曝光波長由寬譜紫外向g線-i線-KrF-ArF-EUV(13.5nm)的方向移動。當前，半導體芯片市場對于g線和i線光刻膠使用量最大，KrF和ArF光刻膠技術被日本和美國企業壟斷，韓國和中國作為追趕者正在積極研發ArF193nm光刻膠技術。

美系光刻膠是否能解救韓系半導體廠的危機？

在全球光刻膠市場，日本占有非常重要的位置。全球專利分布前十的公司，有7成是日本企業。其中，日本JSR和東京日化可量產市面上幾乎所有的光刻膠產品（EUV光源用光刻膠正在研發中），信越化工、富士電子、住友化工在當下主流的半導體光刻膠領域也有較突出的表現。

在韓國，東進化學、LG化學、錦湖化學、COTEM等也生產光刻膠材料，錦湖化學為SK海力士半導體供應ArFDry產品以及部分ArF Immersion產品，東進化學在半導體領域仍只供應KrF以下等級部分產品。實際上，韓國本土光刻膠企業目前暫不具備量產KrF以上的光刻膠的能力。而韓國的半導體制造工廠的技術最高已經達到7nm，三星電子和SK海力士均有ArF和EUV光刻機設備。目前，在全球范圍內能生產ArF光刻膠的企業主要以日美兩國企業為主，Euv光刻膠還在研發階段。如果日韓兩國的關系沒有及時得到修復，庫存的材料用盡，新的材料又尚未走完審核流程的這段時間里，三星電子和SK海力士的一些產線將面臨停擺的風險。

日前，SK海力士發言人對媒體表示，如果兩國之間的問題得不到妥善的解決，且不能追加半導體材料采購，未來或將出現停產的情況。而在這個空缺期，美系光刻膠企業是否能成為韓系半導體廠商的“續命丹”？

美國陶氏化學具備量產市面上全線光刻膠產品的能力，韓國半導體企業在被日本限制出口之后，它或將成為最佳選擇。不過，與眾多日系光刻膠企業相比，陶氏化學的產能能否滿足韓國半導體企業的需求，還是個問題。

值得注意的是，韓國在日本宣布對其限制進口之后才明確表示加大對半導體材料的研發力度，相信在韓方有所成績之前，該國的半導體廠商依舊需要購買日方的材料。此前三星電子和SK海力士的光刻膠材料主要有日本企業供應，如果在這個節點轉向美系企業是否會順利？國際電子商情將持續關注。